ガスクラスタービームによる究極の加工技術を目指して

独自に開発したガスクラスターイオンビーム(GCIB)を用い、原子レベルでの加工技術への応用を世界に先駆けて進めています。GCIBは数千個のガス原子が結合した粒子であり、低エネルギーで表面のみに高密度エネルギーを与えるため、低温での化学反応促進、表面改質、表面分析など原子レベルの究極の加工技術の実現を目指しています。

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新着ニュース

2021.11.5 応用物理学会 ナノ荷電粒子ビーム産学連携委員会 第1回研究会にて,豊田が発表を行いました。

    豊田 紀章 「ガスクラスタ-イオンビームによる原子層プロセス」

2021.10.27  第67回アメリカ真空学会(AVS)オンラインにて,豊田が招待講演を行いました。

    Atomic scale processing focus toipic

              N. Toyoda,  "Atomic layer processing using low-energy cluster beam irradiation"

2021.10.5 - 8 第7回3D集積化低温接合ワークショップ( 7th international workshop on Low Temperature Bondign for 3D integration (LTB-3D 2021)) にて花原がオンライン口頭発表を行いました。

    M1 Soichi Hanahara, "Surface preparation of metal films by gas cluster ion beams using organic acid vapor for wafer bonding"

2021.9.10 第82回応用物理学会秋季学術講演会(オンライン)で,下記の発表を行いました。

M2 太田 崚樹 「O2中性クラスタービーム照射によるCu 酸化膜形成と評価」

M2 朝倉 亘亮 「加速中性原子ビーム(ANAB)の発生とビーム特性・照射効果の検討」

M1 藤原 怜輝 「有機酸とAr-GCIB 照射を用いたSiO2の原子層エッチング」​

​M1 花原 総一 「反応性ガス雰囲気下ガスクラスターイオンビーム照射を用いた表面活性化接合の検討」

  竹内 雅耶 「高感度光電子検出のためのガスクラスターイオンビームを用いた溶液セルの窓材料極薄化に関する研究」

2021.8.23    イノベーションジャパン 大学見本市Online 2021に出展しました。

​​     https://innovationjapan-univ.jst.go.jp/

​     装置デバイス分野「環境に優しいハロゲンフリー原子レベル加工技術」

2021.4.5  応用物理学会機関誌に「ガスクラスタイオン照射を用いた原子層エッチング」で,研究紹介が掲載されました。https://doi.org/10.11470/oubutsu.90.4_239

2021.4.1   新4年生6名が研究室に配属されました。

2021.4.1  竹内 雅耶先生が助教として着任しました。

2021.3.16  応用物理学会 第68回春季学術講演会 7.5イオンビーム一般において,M1 太田 崚樹が,

「中性クラスタービーム照射によるNiエッチングの温度依存性」で口頭発表を行いました。

2021.2.19  修士論文:植松 功多「反応性ガス吸着とGCIB照射によるNi薄膜の原子層エッチング」

劔持 将之「GCIBによるMoS2の表面改質と層数制御」

卒業論文:花原 総一 「Nb系超伝導材料のGCIBを用いた表面活性化接合に向けた研究」

藤原 怜輝 「アセチルアセトンとAr-GCIB照射を用いたSiO2の原子層エッチング」

⽮野 浩基  「加速中性原子ビーム源の開発と特性評価に関する研究」

下間 裕介 「窒素クラスターによるNVセンター作成のための基礎研究」

上記論文がすべて合格となりました。

2021.1.28  日本学術振興会「結晶加工と評価技術」第145委員会 第170回研究会

       「高精度結晶加工のための加工および計測技術」にて

       ”クラスターイオンビーム励起による表面反応と原子層エッチング”として豊田が講演しました。

 

2020.12.10 表面真空学会機関誌「表面と真空」で,研究紹介が掲載されました。

豊田紀章, "ガスクラスターイオンビーム励起による表面反応と原子層エッチングへの応用", 表面と真空, vol. 63, No. 12, pp. 623-628 (2020).

 

2020.12.8      電気学会 医療バイオ研究に有効なインターフェースと量子ビーム応用に関する技術調査専門委員会 公開研究会にて,M2 植松が「金属酸化膜へのhfac吸着とGCIB照射による表面反応」で口頭(オンライン)発表しました。

2020.11.12     兵庫県立大学 知の交流シンポジウム2020 第6回セミナーにて,「いよいよ原子レベルに迫る半導体微細加工技術」でオンライン講演を行います。https://chinokouryu.jp/news/

2020.10.4 - 9  ECS PRiME 2020 (online)の G02 - Atomic Layer Deposition Applications 16にて,

​      G02-1662, N. Toyoda "Reactions on Metal Surface and Diketone Induced By Gas Cluster Ions during Atomic Layer Etching" (招待講演)を行います。

2020.9.28~11.30  イノベーションジャパン大学見本市2020(オンライン)に出展しています。

        「高い骨細胞付着性能を有するインプラント用スーパーエンジニアリングプラスチック」

        https://ij2020online.jst.go.jp/exhibitor/un20200342.html

​2020.9.8 応用物理学会第81回秋季学術講演会(オンライン)にて,3件の口頭発表を行いました。

  • [8p-Z25-11] (M2)劔持 将之、豊田 紀章「MoS2のGCIBによる表面改質とエッチング条件の検討」

  • [8p-Z25-12] (M2)植松 功多、 豊田 紀章 「hfac吸着したNiOへのGCIB照射による表面反応」

  • [8p-Z25-13] (M1)太田 崚樹、豊田 紀章「 反応性ガス雰囲気下中性クラスタービーム照射による金属エッチング」

2020. 7.   オープンキャンパス用研究室紹介動画を作成しました。

https://www.youtube.com/watch?v=OJjwMvBZrQs&t=125s

2020. 7.1 ALD/ALE workshop 2020 (online) https://ald2020.avs.org/ にて豊田が招待講演を行いました。

"Surface Reactions Between Metals and Diketone induced by Gas Cluster Ion Bombardments"

2020. 4. 1. 新たな卒業研究生として4名(藤原,花原,下間,矢野)と,博士後期課程(社会人)の下田さんが研究室に加わりました。

2020. 3. 12-15 応用物理学会春季講演会(新型コロナウイルスのためDVD予稿集での発表)で,M1植松「hfac吸着表面へのGCIB照射によるNiの原子層エッチング」と, M1 劔持「GCIB照射を用いたMoS2の表面改質とエッチング(Ⅱ)」で発表しました。

2020. 3. B4 朝倉,太田(修士進学),川西(就職)が学部卒業しました!

2020. 1.21 豊田が日本表面真空学会 第12回関東支部セミナー(物質・材料研究機構)で講演を行いました。 

2019. 12.11-13 セミコン・ジャパン2019(東京ビッグサイト)に出展しました。

2019.10.20-25 豊田がAmerica Vacuum Society 2019(オハイオ州コロンバス)にて口頭発表をおこないました。

2019.9.18-21 応用物理学会秋季学術講演会(北海道大学)で、M1 植松、劔持が発表を行いました。

2019.8.19 

工学部オープンキャンパスが開催されます。

2019.7.29

豊田がALD/ALE workshop 2019 Seattleで"Atomic layer etching of transition metals with gas cluster ion beam irradiation and acetylacetone"という題目で、口頭講演を行いました。