兵庫県立大学大学院工学研究科電子情報工学専攻
ナノプロセス研究グループ
ガスクラスタービームによる究極の加工技術を目指して
独自に開発したガスクラスターイオンビーム（GCIB)を用い、原子レベルでの加工技術への応用を世界に先駆けて進めています。GCIBは数千個のガス原子が結合した粒子であり、低エネルギーで表面のみに高密度エネルギーを与えるため、低温での化学反応促進、表面改質、表面分析など原子レベルの究極の加工技術の実現を目指しています。
新着ニュース
2023.12.13-15 セミコンジャパンにて展示を行いました。
2023.10.21-22 Dry Process Symposium (DPS 2023)にてM2 田中、作田がポスター発表を行いました。
K. Sakuta, M. Takeuchi, N. Toyoda, "Temperature dependence on metal etching using reactive gas adsorption and GCIB"
H. Tanaka, M. Takeuchi, N.Toyoda, "Surface modification and etching of metal films by neutral cluster beam irradiation"
2023.10.17 MNC 2023（札幌市）にて竹内助教が講演を行いました。
M. Takeuchi, S. Suzuki, M. Nakamura, T. Hata, N. Toyoda, "Reactive etching and pressure resistance evaluation of SiNx film by O2-GCIB for electron transmission window of liquid cell"
2023.9.22 知の交流シンポジウム（神戸商工会議所）にてポスター展示を行いました。
2023.9.19-23 応用物理学会秋季講演会（熊本市）にて3件の発表を行いました。
竹内雅耶，鈴木哲，豊田紀章 「GCIBを用いた電子透過窓極薄化による液中試料検出の高感度化」
作田昂大、竹内雅耶、豊田紀章「反応性ガス吸着とO2-GCIB照射を用いた金属エッチングの基板冷却効果」
田中秀幸、竹内雅耶、豊田紀章「中性クラスタービーム照射による金属膜のエッチング」
2023.9.4-8 Radiation Effects in Insulator (REI 2023, 福岡）にて竹内助教が発表を行いました。
M. Takeuchi, N. Toyoda "Evaluation of mechanical property of ultra-thin SiNx membranes irradiated by gas cluster ion beam"
2023.7.25 Atomic Layer Etching Symposium 2023 (Bellevue, WA, USA)で豊田が口頭発表しました。
N. Toyoda, H. Tanaka, M. Takeuchi "Surface Modification with Neutral Gas Cluster Beams and Its Application to Atomic Layer Etching"
2023.6 2022年度キオクシア奨励研究 優秀研究賞表彰を受賞しました。
2023.4.1 新B4 5名が研究室配属されました。
2023.3.15 ~ 18 第70回応用物理学会春季学術講演会（上智大学 四谷キャンパス）にて3件の口頭発表を行いました。
7.5 イオンビーム一般
作田 昂大「反応性ガス吸着とO2-GCIBを用いたNiパターンエッチング」
田中 秀幸「中性クラスタービーム照射とVUV光を用いた金属膜のALE」
竹内 雅耶「O2-GCIBとアセチルアセトンによるSiNx膜原子層エッチングプロセスの反応機構の検討」
2022.12. 14 ~ 16 東京ビッグサイトで開催されたSEMICON JAPAN 2022に出展しました。
2022. 11.8 ~ 11 マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議 (MNC) 2022 で竹内助教が発表しました。
「Atomic layer etching with gas cluster ion beam of SiNx film for photoelectron transmittance window」
2022. 10.4 ~ 10.31 イノベーションジャパン2022 オンラインに「ガスクラスターイオンビームによる原子層エッチング」で出展しました。
2022.9.22 第83回応用物理学会秋季講演会（東北大学 川内キャンパス）にて6件の口頭発表を行いました。
7.5 イオンビーム一般
竹内 雅耶 「窒化シリコン膜の低損傷かつ原子層制御を実現するGCIBエッチングプロセスの検討」
（講演奨励賞受賞記念講演）
竹内 雅耶 「窒化シリコン膜へのGCIB照射による低損傷照射効果の検討」
花原 総一 「反応性ガス雰囲気下GCIB照射を用いた表面活性化接合の接合状態」
藤原 怜輝 「位置制御とGCIB-ALEを用いた高精度形状加工技術の検討」
作田 昂大 「O2-GCIBとacac吸着によるNiパターンのエッチング」
田中 秀幸 「中性クラスタービームを用いた金属膜のALEと評価」
2022. 3. 24 第69回応用物理学会春季講演会に3件の口頭発表（オンライン）を行いました。
7.5 イオンビーム一般
花原 総一 「反応性ガス雰囲気下ガスクラスターイオンビーム照射を用いた表面活性化接合の検討(II)」
藤原 怜輝 「ガスクラスターイオンを用いたSiO2エッチングの吸着ガス種依存性」
竹内 雅耶 「GCIBを用いた原子層エッチングによるSi3N4膜の極薄化及びその耐圧性評価」
2022. 3. 18 日本表面真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 第170会定例研究会にて豊田が招待講演を行いました。
豊田 紀章 「ガスクラスターイオンビームによる原子層エッチング」
2022. 2.22 R3年度卒業研究発表会が行われました。
作田 昂大 アセチルアセトンとGCIB照射によるNiパターンのエッチング
山野上 恵 μ-TAS作製に向けたGCIB照射によるポリマー親水化の検討
三輪 憧大 XPS測定用溶液セルの窓材料極薄化に向けたAr-GCIBによるSi3N4の原子層エッチング
田中 秀幸 中性クラスタービーム発生およびビーム特性の評価
松井 拓也 反応性ガス雰囲気中GCIB照射を用いた表面活性化接合
北 一希 ダイヤモンド結晶へのN2-GCIB照射による量子ビット形成に向けた基礎研究
2022. 2. 17 R3年度 修士論文発表会が行われました。
朝倉 亘亮 加速中性原子ビームの発生と照射効果に関する研究
太田 崚樹 中性クラスタービームによる表面励起反応と原子層プロセスへの応用
2021.12.15-17 セミコン・ジャパン2021に出展しました。（リンク）
2021.12.6 電気学会 光・量子デバイス研究会 量子ビームによるナノ構造・界面形成とバイオメディカル応用技術調査専門委員会（神戸市勤労会館）にて，M1 藤原 怜輝が口頭発表を行いました。
「有機酸とAr-GCIB照射を用いたSiO2の原子層エッチング」
2021.11.5 応用物理学会 ナノ荷電粒子ビーム産学連携委員会 第1回研究会にて，豊田が発表を行いました。
豊田 紀章 「ガスクラスタ-イオンビームによる原子層プロセス」
2021.10.26-29 マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議(MNC2021, オンライン）にて，竹内雅耶 助教が発表を行いました。
M. Takeuchi, R. Fujiwara, N.Toyoda, "Thinning of silicon nitride films for in situ environmental cell by gas cluster ion beam"
2021.10.27 第67回アメリカ真空学会(AVS)オンラインにて，豊田が招待講演を行いました。
Atomic scale processing focus toipic
N. Toyoda, "Atomic layer processing using low-energy cluster beam irradiation"
2021.10.5 - 8 第7回3D集積化低温接合ワークショップ( 7th international workshop on Low Temperature Bondign for 3D integration (LTB-3D 2021)) にて花原がオンライン口頭発表を行いました。
M1 Soichi Hanahara, "Surface preparation of metal films by gas cluster ion beams using organic acid vapor for wafer bonding"
2021.9.10 第82回応用物理学会秋季学術講演会（オンライン）で，下記の発表を行いました。
M2 太田 崚樹 「O2中性クラスタービーム照射によるCu 酸化膜形成と評価」
M2 朝倉 亘亮 「加速中性原子ビーム(ANAB)の発生とビーム特性・照射効果の検討」
M1 藤原 怜輝 「有機酸とAr-GCIB 照射を用いたSiO2の原子層エッチング」
M1 花原 総一 「反応性ガス雰囲気下ガスクラスターイオンビーム照射を用いた表面活性化接合の検討」
竹内 雅耶 「高感度光電子検出のためのガスクラスターイオンビームを用いた溶液セルの窓材料極薄化に関する研究」
2021.8.23 イノベーションジャパン 大学見本市Online 2021に出展しました。
https://innovationjapan-univ.jst.go.jp/
装置デバイス分野「環境に優しいハロゲンフリー原子レベル加工技術」
2021.4.5 応用物理学会機関誌に「ガスクラスタイオン照射を用いた原子層エッチング」で，研究紹介が掲載されました。https://doi.org/10.11470/oubutsu.90.4_239
2021.4.1 新4年生6名が研究室に配属されました。
2021.4.1 竹内 雅耶先生が助教として着任しました。
2021.3.16 応用物理学会 第68回春季学術講演会 7.5イオンビーム一般において，M1 太田 崚樹が，
「中性クラスタービーム照射によるNiエッチングの温度依存性」で口頭発表を行いました。
2021.2.19 修士論文：植松 功多「反応性ガス吸着とGCIB照射によるNi薄膜の原子層エッチング」
劔持 将之「GCIBによるMoS2の表面改質と層数制御」
卒業論文：花原 総一 「Nb系超伝導材料のGCIBを用いた表面活性化接合に向けた研究」
藤原 怜輝 「アセチルアセトンとAr-GCIB照射を用いたSiO2の原子層エッチング」
⽮野 浩基 「加速中性原子ビーム源の開発と特性評価に関する研究」
下間 裕介 「窒素クラスターによるNVセンター作成のための基礎研究」
上記論文がすべて合格となりました。
2021.1.28 日本学術振興会「結晶加工と評価技術」第145委員会 第170回研究会
「高精度結晶加工のための加工および計測技術」にて
”クラスターイオンビーム励起による表面反応と原子層エッチング”として豊田が講演しました。
2020.12.10 表面真空学会機関誌「表面と真空」で，研究紹介が掲載されました。
豊田紀章, "ガスクラスターイオンビーム励起による表面反応と原子層エッチングへの応用", 表面と真空, vol. 63, No. 12, pp. 623-628 (2020).
2020.12.8 電気学会 医療バイオ研究に有効なインターフェースと量子ビーム応用に関する技術調査専門委員会 公開研究会にて，M2 植松が「金属酸化膜へのhfac吸着とGCIB照射による表面反応」で口頭（オンライン）発表しました。
2020.11.12 兵庫県立大学 知の交流シンポジウム2020 第6回セミナーにて，「いよいよ原子レベルに迫る半導体微細加工技術」でオンライン講演を行います。https://chinokouryu.jp/news/
2020.10.4 - 9 ECS PRiME 2020 (online)の G02 - Atomic Layer Deposition Applications 16にて，
2020.9.28~11.30 イノベーションジャパン大学見本市2020（オンライン）に出展しています。
「高い骨細胞付着性能を有するインプラント用スーパーエンジニアリングプラスチック」
https://ij2020online.jst.go.jp/exhibitor/un20200342.html
2020.9.8 応用物理学会第81回秋季学術講演会（オンライン）にて，3件の口頭発表を行いました。
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[8p-Z25-11] (M2)劔持 将之、豊田 紀章「MoS2のGCIBによる表面改質とエッチング条件の検討」
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[8p-Z25-12] (M2)植松 功多､ 豊田 紀章 「hfac吸着したNiOへのGCIB照射による表面反応」
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[8p-Z25-13] (M1)太田 崚樹、豊田 紀章「 反応性ガス雰囲気下中性クラスタービーム照射による金属エッチング」
2020. 7. オープンキャンパス用研究室紹介動画を作成しました。
https://www.youtube.com/watch?v=OJjwMvBZrQs&t=125s
2020. 7.1 ALD/ALE workshop 2020 (online) https://ald2020.avs.org/ にて豊田が招待講演を行いました。
"Surface Reactions Between Metals and Diketone induced by Gas Cluster Ion Bombardments"
2020. 4. 1. 新たな卒業研究生として4名（藤原，花原，下間，矢野）と，博士後期課程（社会人）の下田さんが研究室に加わりました。
2020. 3. 12-15 応用物理学会春季講演会（新型コロナウイルスのためDVD予稿集での発表）で，M1植松「hfac吸着表面へのGCIB照射によるNiの原子層エッチング」と, M1 劔持「GCIB照射を用いたMoS2の表面改質とエッチング(Ⅱ)」で発表しました。
2020. 3. B4 朝倉，太田（修士進学），川西（就職）が学部卒業しました！
2020. 1.21 豊田が日本表面真空学会 第12回関東支部セミナー（物質・材料研究機構）で講演を行いました。
2019. 12.11-13 セミコン・ジャパン2019（東京ビッグサイト）に出展しました。
2019.10.20-25 豊田がAmerica Vacuum Society 2019(オハイオ州コロンバス）にて口頭発表をおこないました。
2019.9.18-21 応用物理学会秋季学術講演会（北海道大学）で、M1 植松、劔持が発表を行いました。
2019.8.19
工学部オープンキャンパスが開催されます。
2019.7.29
豊田がALD/ALE workshop 2019 Seattleで"Atomic layer etching of transition metals with gas cluster ion beam irradiation and acetylacetone"という題目で、口頭講演を行いました。